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수집 정보 요약
수집 사이트 수 : 2 수집된 정보 : 1060336총 태그 수 : 13160 매칭된 태그 수 : 16438051
최근 업데이트 된 사이트 수 : 2 최근 한주 정보 : 957
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| 중국 제3기 반도체 투자기금의 특징 및 시사점 |
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Bcpharma(徐州博康) 등의 업체에서 포토레지스트(PR)를 생산 중이나 불화크립톤(KrF) 분야의 국산화율(2022)은 10%에 못 미치며, 불화아르곤(ArF)용 ... |
| 13년째 사주풀이하고 있는 옛 '도로교통공단' 사이트 |
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과학기술정보통신부 산하 한국연구재단이 과거 한국학술진흥재단 시절 사용하던 도메인(krf.or.kr)은 현재... 한국연구재단이 과거 한국학술진흥재단 시절 사용했던 도메... |
| [뉴스핌 라씨로] 와이씨켐, 반도체 유리기판 핵심소재 상용화..."고선택비 인... |
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이와 관련해 지난 2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 린스를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 ... |
| 와이씨켐, AI 반도체 신소재 기대감…적자 탈출은 숙제[반도체 부품사 점검] |
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이미 2004년 불화크립톤(KrF)과 불화아르곤(ArF) 감광액용 린스를 세계 최초로 개발해 양산했다. 극자외선(EUV) 공정에 투입되는 린스 역시 지난 2021년 개... |
| 세메스, 日TEL 독점 깼다... ArF-i 트랙 장비 국산화 |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 노광기용 트랙 장비를 생산해 왔으며, 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 ArF-i 장비도 개발했다고 설명했다... |
| 세메스, 반도체 이머전 스피너 ‘오메가 프라임’ 개발 |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산해 왔으며, 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전(ArF-i) 장비를 개발했다. 불... |
| 세메스, 반도체 포토공정용 ArF-i 스피너 양산…"차세대 장비 국산화" |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 주로 생산하다 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전 장비를 개발했다. 회사 관계자는 “... |
| 세메스, 日에 의존하던 반도체 장비 국산화 성공 |
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반도체에 회로를 새기는 노광 기술은 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)으로 나뉜다. 세메스는 불화크립톤 장비만 제작해 왔는데, 고성능 노광기에... |
| 세메스, 반도체 포토 공정 장비 국산화 성공 |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 주로 생산하다 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전 장비를 개발했다. 최길현 세메스 C... |
| 세메스, 반도체 포토공정용 '오메가 프라임' 양산 나서 |
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그간 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산하던 세메스는 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전(ArF-i) 장비를 새로 개발, 지난해 양... |
| 세메스, 반도체 포토 공정용 '오메가 프라임' 2호기 양산 |
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그간 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산하던 세메스는 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전(ArF-i) 장비를 새로 개발, 지난해 양... |
| 세메스, 반도체 포토공정용 'ArF-i 스피너 장비' 양산...'국산화 성공' |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산해 왔으며, 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전(ArF-i) 장비를 개발했다. 불... |
| 세메스, 日에 의존하던 반도체 이머전 스피너 ‘오메가 프라임’ 본격 양산 |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산해 왔으며, 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤이머전(ArF-i) 장비를 개발했다. 불... |
| 삼성 반도체 계열사 세메스, 포토공정용 장비 국내 첫 양산 |
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반도체에 회로를 새기는 노광 기술은 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)으로 나뉜다. 세메스는 불화크립톤 장비만 제작해 왔는데, 고성능 노광기에... |
| 세메스, 반도체 이머전 스피너 '오메가 프라임' 본격 양산 |
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세메스는 그동안 불화크립톤(KrF) 스피너를 생산해 왔으며, 광원의 파장 선폭이 짧아진 고성능 노광기 대응을 위해 ArF-i 장비를 개발했다. 지난해 1호기를 출하한 ... |
| 켐트로스, 반도체 포토레지스트 공정용 소재 양산 시설 완공 |
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켐트로스는 KrF(불화크립톤)용 고분자, PAG(감광재) 등을 시작으로 먼저 양산화에 들어갈 예정이며 ArF용, EUV(극자외선)용 고분자 및 음이온 고분자 등 관련 ... |
| '울산 VC 수원FC'-'포항 VS 전북', eK리그 서포터즈컵 2024 4강 대진 결정 |
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2경기 : 수원FC (2) vs (1) 제주 - 3경기 : 강원 (0) vs (2) 포항 - 4경기 : 대전 (0) vs (2) 전북 ■ ‘eK리그 서포터즈컵 2024’ 4강 토너... |
| 와이씨켐 주가 '떨떠름'…가동률 회복·재고 감소 확인 |
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ArF & KrF 포토레지스트용 rinse를 세계 최초로 개발했고 residue defect 제거를 포함한 특수 목적의 ArF Immersion 공정용 risn... |
| 중국 광각기(리소그래피 기계) 시장 동향 |
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<3대 기업 2022년 리소그래피 기계 출하량 현황> (단위: 대) 등급 분류 ASML Canon Nikon 최첨단 EUV 40 / / 첨단 Arfi 81 / 4 ArF... |
| 와이씨켐 주가 훨훨...극자외선(EUV) 노광 공정용 린스 부각 |
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ArF & KrF 포토레지스트용 rinse를 세계 최초로 개발하였고, ArF Immersion 공정용 risne를 세계 최초로 개발하여 양산화 했다. 한편 이날... |
| 함기용 보스턴마라톤 제패 기념 제21회 호반마라톤대회, 6월2일 개최 |
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22일 오후 5시까지 인터넷(https://kw-marathon.com)을 통해 참가 신청을 할 수 있으며, 선착순 2,000명만 모집한다. 자세한 사항은 강원일보사 미래사업본부(... |
| 박춘근 CGPM 대표 "반도체 패터닝 소재로 2027년 1500억원 매출 목표" |
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스미토모 한국 자회사인 동우화인켐과는 불화크립톤(KrF), I라인 PR용 폴리머를 공동 개발 중이다. 반도체 회로 패턴을 새길 때 쓰는 PR는 폴리머 재료와 빛에 반응... |
| 와이씨 주가 초강세... 반도체 공정 재료가 미치는 영향은? |
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ArF & KrF 포토레지스트용 rinse를 세계 최초로 개발했고, ArF Immersion 공정용 risne를 세계 최초로 개발해 양산화 했다. 반도체 공정 ... |
| 와이씨켐, 주가 급락…'EUV PR 린스' 소식에 널뛰기 |
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2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse ... |
| [알립니다]춘천서 보스턴 제패의 영광 재현 - 제21회 춘천호반마라톤대회 |
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com/(대회 요강 참고) ◇기 념 품 : 추후 홈페이지 공지 ◇문 의 : 강원일보사 미래사업본부 (033)258-1251~2, KRF 운영사무국 (033)264-13... |
| 와이씨켐, 주가 급등…EUV PR용 '린스' 고객사 양산평가 시작 |
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2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse ... |
| 와이씨켐 EUV PR용 린스, 반도체 라인 양산 테스트 진입 |
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2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse ... |
| 와이씨켐, EUV PR용 린스 반도체 라인 양산 기대감에 주가 '폭풍매수' |
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ArF & KrF 포토레지스트용 rinse를 세계 최초로 개발했고 residue defect 제거를 포함한 특수 목적의 ArF Immersion 공정용 risn... |
| 와이씨켐, EUV PR용 '린스' 반도체 라인 양산 테스트 진입 |
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2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse ... |
| 와이씨켐 EUV PR용 린스, 반도체 라인 양산 테스트 진입 ... 국내 기업 상용화... |
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2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse ... |
