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정보 바로가기 : 성균관대 김태성 교수 공동연구팀, 차세대 양자 암호화 기술 개발

성균관대 김태성 교수 공동연구팀, 차세대 양자 암호화 기술 개발
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연구진은 이러한 위상학적인 보호를 저온 플라즈마 공정을 통해 최상단층을 황화(Sulfurization)시키며... 또한, 연구에서 사용된 저온 플라즈마 공정은 대면적 합성이 가능함에 따라 해당 암호화 소자가 상용화 및...


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