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와이씨켐, EUV PR용 린스 반도체 라인 양산 기대감에 주가 '폭풍매수'[카테고리 설정이 아직되어 있지 않습니다.]
ArF & KrF 포토레지스트용 rinse를 세계 최초로 개발했고 residue defect 제거를 포함한 특수 목적의 ArF Immersion 공정용 risne를 세계 최초로 개발해 양산화했다. 오는 2028년까지 용인 반도체 클러스터 내 신규 시설 및...
