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와이씨켐 EUV PR용 린스, 반도체 라인 양산 테스트 진입[카테고리 설정이 아직되어 있지 않습니다.]
2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse 도 세계 최초로 선보였다. 와이씨켐은 현재 다양한 EUV 광원용 소재...
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