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[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
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기존 펠리클은 ArF(불화아르곤), KrF(불화크립톤) 펠리클이 적용되고 있는데 EUV공정이 적용되면서 차세대 EUV용 펠리클 개발에 나서고 있다. ArF 블랭크 마스크는 반도체 노광 공정에 필수 소재다. 노광은 동그란 웨이퍼...


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