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국내 연구진 '햇빛으로 수처리 분리막 오염 제거' 기술 개발[카테고리 설정이 아직되어 있지 않습니다.]
국내 연구진이 하수처리나 수돗물 생산과정에서 사용하는 수처리 분리막 표면에 쌓이는 오염물질을 햇빛으로 제거하는 기술을 개발했다. 한국과학기술연구원(KIST)은 10일 물자원순환연구센터 변지혜 박사·홍석원 단장 연구팀이 햇빛을 받으면 활성화되는 광촉매를 이용, 수처리용 분리막을 자동세척해 표면오염을 없애는 고효율 광촉매 분리막 기술을 개발했다고 밝혔.. 국내 연구진 ..'햇빛으로 수처리 분리막 오염 제거' 기술 개발 국내 연구진이 하수처리나 수돗물 생산과정에서 사용하는 수처리 분리막 표면에 쌓이는 오염물질을 햇빛으로 제거하는 기술을 개발했다... .. .. .. ..한국과학기술연구원(KIST)은 ..‘응용 촉매 B:환경(Applied Catalysis B:Environmental)’ 최신호에 게재됐다...